光刻技術(shù)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝之一，其基本原理是利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理，通過光源、掩膜、光敏材料和顯影等步驟，將圖案傳輸?shù)酱庸さ幕?。具體來說，光刻技術(shù)利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理，在光照作用下，借助光致抗蝕劑（光刻膠）將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上。光經(jīng)過掩膜的透明區(qū)域照射到光敏材料上，使其發(fā)生化學(xué)或物理變化，然后通過顯影去除未曝光的光敏材料（對于正性光刻膠）或曝光的光敏材料（對于負(fù)性光刻膠），最終形成所需的圖案。?